Intel zegt de zogeheten 'tri gate-transistors' – verkeersleiders die de elektronenstroom aan drie zijden van elke draad reguleren – in 2010 te kunnen integreren. De nieuwe techniek zorgt volgens de fabrikant voor een snelheidstoename van 45 procent óf een verbruiksreductie van 35 procent ten opzichte van de huidige 65 nm-processors.

Als de voorspelling klopt, dan zou de 'Wet van Moore' – die voorschrijft dat het aantal transistors op chips om de twee jaar verdubbelt – langer houdbaar zijn dan verwacht. Toekomstige chips die middels het 65 nanometer-procédé (of nog preciezer) zijn geproduceerd, hebben namelijk te kampen met een klein elektriciteitsverlies.

Een echte oplossing voor het probleem is nog niet voorhanden. Het is wel mogelijk om minder snelle chips te gebruiken met meerdere kernen, zodat alsnog de gewenste snelheid kan worden bereikt. AMD, Sun, maar ook Intel kiezen hiervoor.

IBM zegt momenteel een carbon nanotube-molecuul te testen, waarmee snellere circuits kunnen worden gebouwd.

Intel lijkt zich nu te gaan richten op de tri-gate oplossing. "De techniek is, in vergelijking met de carbon nanotubes, veel makkelijker te gebruiken", stelt Mike Mayberry, vice-president van Intels technologie- en fabricageafdeling. "Het probleem met carbon nanotubes is dat niemand weet hoe ze ze op een speciale plek kunnen krijgen zonder ze één voor één te verplaatsen."

Volgens Intel ligt de 'tri gate'-techniek nog op de tekentafel, maar kan deze snel en met bestaand materiaal worden geïntegreerd. "Het zal een optie worden voorbij de 45 nanometer", aldus Mayberry.

Volgens de huidige planning stapt Intel in 2009 over op het 32 nanometer-procédé. De 45 nanometer-chips worden in 2007 verwacht. Bron: Techworld