"Het doel is om kleinere patronen te maken op een chip", aldus MIT-onderzoeker Ralf Heilman tegenover het Amerikaanse Computerworld. "De geïntegreerde circuits en transistors vormen de kern van chips. Hoe kleiner ze zijn, hoe sneller en hoe meer circuits en transistors je op een enkele chip kunt plaatsen. Tegelijkertijd worden ze goedkoper en krachtiger."

De verkleinslag wordt in de processorwereld in hoog tempo doorgevoerd. Nog geen jaar geleden maakte Intel de overstap van een 65nm naar een 45nm-productieproces. Ergens in 2009 hoopt de chipbakker al een 32nm-processor (Westmere) op de markt te brengen.

Lithografie

Fabrikanten als Intel maken voor het 45nm-proces gebruik van lithografie waarbij met licht met korte golflengten een verfijnd patroon op de chip wordt gezet. Maar die techniek heeft zijn beperkingen, zo betoogt Heilmann.

Om de stap naar 25 nanometer (en nog kleiner) te kunnen maken, hebben de onderzoekers een lithografische technologie ontwikkeld waarmee het patroon op een chip nog verder in elkaar kan worden 'gedrukt'. Hierbij wordt gestart met een vrij grof patroon van 200nm-lijntjes met daartussen een witruimte van 200 nanometer. Vervolgens wordt de tussenruimte telkens door tweeën gedeeld totdat er 25 nanometer overblijft.

Het MIT heeft de techniek gepatenteerd en volgens Heilman hebben al verschillende bedrijven interesse getoond. De onderzoeker wilde echter geen namen noemen.

Overeenkomsten

Woordvoerder Markus Weingartner van Intel Duitsland lijkt niet echt onder de indruk van de nieuwe technologie. "Ik weet er niet het fijne van, maar het lijkt wel overeenkomsten te hebben met de technologie die Intel nu al gebruikt", aldus Weingartner tegenover Techworld. "MIT zal zijn technologie bovendien moeten inbrengen bij de ITRS, de The International Technology Roadmap for Semiconductors. Aan de patenten alleen heb je niet zoveel als er geen gereedschappen zijn om er mee te werken."

Overigens denkt Intel al verder dan 25 nanometer. Na 32 nanometer in 2009 heeft Intel voor 2011 zelfs al 22 nanometer op de planning staan. Het is nog niet duidelijk welke technologieën Intel daarvoor gebruikt.

Intel werkt met Extreme UltraViolet (EUV) al wel aan een nieuwe technologie 'met erg korte golflengtes', aldus Weingartner. "Het is een zachte röntgen met een dichtheid van 13,5 nanometer." De woordvoerder kon niet zeggen wanneer EUV in gebruik wordt genomen. "Het is een industriebreed initiatief waarbij meer partijen zijn betrokken dan alleen Intel."

Bron: Techworld